一、產品名稱：創(chuàng)新型納米膠體磨，創(chuàng)新納米膠體磨，改進型納米膠體磨，改良型納米膠體磨，研磨分散膠體磨，納米研磨分散機

二、創(chuàng)新型納米膠體磨簡介

上海SGN技術，*創(chuàng)意，融化理念。將SGN納米高剪切膠體磨進行進一步的改進，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改進成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改進型的納米膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種創(chuàng)新的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質機”、“研磨乳化機”。

，這種*的設計，放眼世界，獨上海SGN一家，更多關于創(chuàng)新型膠體磨的信息，請接洽上思峻，劉！                         
           


三、結構

創(chuàng)新型膠體磨，研磨分散機，簡單的來講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機，合二為一了。同時具備膠體磨和分散機的功能，并且減少了膠體磨和分散機串連后的，時間差因素。從成本上來講，原先兩臺設備的價格，現在用一臺研磨分散機就可以完成，性價比更高。

GMD2000系列創(chuàng)新型膠體磨，研磨分散機的結構：研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

GMD2000系列創(chuàng)新型膠體磨，研磨分散設備是SGN（上海）公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

  
         
四、GMD2000系列納米創(chuàng)新型膠體磨特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

，研磨分散機，研磨均質機，研磨乳化機，全新的設計理念，超高設備剪切力，以及穩(wěn)定的設備運行，SGN為廣大企業(yè)提供優(yōu)質的設備服務！