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高分子材料研磨均質(zhì)機(jī),高分子材料研磨分散機(jī)

簡(jiǎn)要描述:高分子材料研磨均質(zhì)機(jī),高分子材料研磨分散機(jī)就是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相(液體、固體、氣體)進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常是液體)的過(guò)程。而在通常情況下各個(gè)相是互不相溶的。當(dāng)外部能力輸入時(shí),兩種物料重組成為均一相。

  • 產(chǎn)品型號(hào):GRS2000/4
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-08-18
  • 訪  問(wèn)  量:1020
詳情介紹

高分子材料研磨均質(zhì)機(jī),高分子材料研磨分散機(jī),高分子材料研磨分散設(shè)備,高剪切研磨分散機(jī),高剪切研磨均質(zhì)機(jī),高分子材料分散機(jī),高分子材料均質(zhì)機(jī),SGN研磨分散機(jī),SGN研磨均質(zhì)機(jī)
 

高分子材料研磨均質(zhì)機(jī),高分子材料研磨分散機(jī)就是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相(液體、固體、氣體)進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常是液體)的過(guò)程。而在通常情況下各個(gè)相是互不相溶的。當(dāng)外部能力輸入時(shí),兩種物料重組成為均一相。

高分子材料具有一定的韌性,用傳統(tǒng)方式分散、均質(zhì)需要幾道工序,費(fèi)時(shí)費(fèi)力。而且醫(yī)藥生產(chǎn)對(duì)衛(wèi)生、設(shè)備的材質(zhì)要求非常嚴(yán)格。所以尋找一款適合生產(chǎn)醫(yī)藥高分子材料的分散均質(zhì)設(shè)備,對(duì)醫(yī)藥企業(yè)來(lái)說(shuō)非常重要。江蘇某藥業(yè)集團(tuán)在經(jīng)過(guò)幾番市場(chǎng)尋找之后,該企業(yè)的研發(fā)主管與生產(chǎn)主管和SGN工程師交流下來(lái),認(rèn)定了SGN的研磨均質(zhì)機(jī)。

SGN在處理高分子材料時(shí)選用CM+8SF的工作頭,設(shè)備通冷卻水,高分子材料一次處理下來(lái),就可以達(dá)到200目。經(jīng)過(guò)篩濾之后,*了該藥業(yè)集團(tuán)的要求。

 

高分子材料研磨均質(zhì)機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。

技術(shù)及價(jià)格請(qǐng)來(lái)電:劉  ,公司有樣機(jī)可供客戶購(gòu)前實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶來(lái)我司參觀指導(dǎo)!

       

是由錐體磨,均質(zhì)機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
       

第1級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
       

第2級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

 

該款機(jī)器在設(shè)計(jì)上的突出優(yōu)點(diǎn)在于:

1、轉(zhuǎn)速相較其它廠家2900轉(zhuǎn)左右高出約三倍:

2、磨頭結(jié)構(gòu)更精密并有*設(shè)計(jì),使之研磨作用力更大,效果更好。

3、德國(guó)進(jìn)口雙端面機(jī)械密封擁有*結(jié)構(gòu)和特殊材質(zhì)保證高速運(yùn)轉(zhuǎn)和長(zhǎng)使用壽命。

4、GRS2000中試型研磨機(jī)與大型工業(yè)管線式量產(chǎn)機(jī)型配置基本相同。各種工作頭的種類(lèi)及相應(yīng)線速度相同,中試過(guò)程中的工藝參數(shù)在工業(yè)化后之后不用重新調(diào)整,從而將機(jī)器型號(hào)升級(jí)到工業(yè)化的過(guò)程中的風(fēng)險(xiǎn)降到。

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